Субсидии из государственного бюджета пойдут на приобретение и установку на заводе компании Micron Technology в Хиросиме оборудования нидерландской компании ASML для производства микросхем с использованием литографии в крайнем ультрафиолетовом диапазоне.

Субсидии покроют примерно 40% общего объема инвестиций, которые Micron планирует сделать в Японии. Они предоставляются в рамках принятой в стране программы поддержки внутреннего производства микроэлектроники. Кроме того, в бюджет заложено еще около 1,1 млрд долл. на покрытие производственных расходов и 170 млн долл. на разработку микросхем. На заводе Micron будут выпускаться микросхемы памяти DRAM по новому производственному процессу под названием 1-гамма (1γ). Micron в настоящее время является единственной компанией, производящей микросхемы памяти типа DRAM в Японии. На заводе в Хиросиме недавно начато изготовление микросхем памяти LPDDR5X по предыдущему процессу 1-бета.

Тем временем в Китае Государственная канцелярия интернет-информации продолжает изучение безопасности продукции Micron, начатое вскоре после того, как Нидерланды и Япония присоединились к запрету на экспорт в Китай технологий производства микросхем.