Компания Micron Technology намерена вложить 3,6 млрд долл. в строительство первой в Японии линии производства микросхем с использованием фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV). Эта технология применяется для изготовления самых современных микросхем. Micron планирует использовать ее в производстве микросхем памяти DRAM следующего поколения. Технологический процесс, разработанный в компании, носит название 1-гамма (1γ) и предназначен для изготовления микросхем с размером элементов 10 нм.

Из-за непрекращающегося дефицита микросхем и последствий торговой войны между США и Китаем многие страны, включая Японию, принимают меры по развитию внутреннего производства микросхем. Япония выделяет значительные средства на поддержку местных производителей. Например, компания Rapidus, которая собирается к 2025 году наладить в Японии производство микросхем масштаба 2 нм, с 2022 года получила от государства уже 532 млн долл., наряду с частными инвестициями от Toyota, Sony и NT&T.