IBM вступила в консорциум, разрабатывающий технологию ультрафиолетовой литографии
Приверженцами технологии ультрафиолетовой вакуумной литографии (Extreme Ultra Violet — EUV) являются сегодня Intel, Motorola, Advanced Micro Devices и ряд других компаний, объединившихся в 1997 году в консорциум EUV Consortium. В марте представители IBM сообщили о вхождении корпорации в этот консорциум.
Технология ультрафиолетовой вакуумной литографии позволит уменьшить размеры элементов, вытравливаемых на поверхности кремниевых пластин, а это в свою очередь обеспечит соответствующее увеличение производительности микросхем. Используемые сегодня технологии литографии в ближайшие два-три года достигнут предела своих физических возможностей — вот почему альтернативные решения, подобные EUV, приобретают столь важное значение.
«Если мы не сможем и дальше уменьшать размеры элементной базы, закон Мура перестанет работать», — заметил ведущий аналитик компании Insight 64 Натан Бруквуд.
С помощью технологии EUV производители смогут получать печатные схемы, размеры элементов которых не превысят 0,1 мкм. Большинство наиболее совершенных микропроцессоров изготавливаются сегодня по 0,18-микронной технологии.
Руководители корпорации Intel, приветствовавшие вступление IBM в ряды консорциума, заявили, что применение ультрафиолетовой вакуумной литографии позволит уже к 2005-2006 годам довести тактовую частоту микропроцессоров до 10 ГГц. Массовое производство электронных компонентов, изготовленных по данной технологии, планируется развернуть в 2005 году.
Ранее инженеры IBM занимались разработкой альтернативной технологии литографии Electron Beam Projection, или e-beam, поэтому решение корпорации поддержать EUV получило особенно сильный резонанс. Оно стало своеобразным сигналом другим представителям отрасли (включая компании, занимающиеся выпуском оборудования для производства и тестирования полупроводниковых микросхем), что технология EUV получит самую широкую поддержку и в нее имеет смысл вкладывать деньги.
«Все это, безусловно, свидетельствует о возможности объединения ведущих производителей вокруг EUV, — подчеркнул Бруквуд. — И в этом смысле присоединение IBM к консорциуму трудно переоценить».
Тем не менее руководство IBM, желая застраховать себя от возможных неприятностей, параллельно с участием в проекте EUV намерено продолжать работы над созданием технологии e-beam.
«Мы хотим развивать оба направления, чтобы во всеоружии подойти к тому моменту, когда лидерство одного из кандидатов обозначится более явно», — пояснил представитель корпорации.
Наверное, не случайно вхождение IBM в состав группы разработчиков произошло буквально через несколько дней после того, как Intel объявила о первых серьезных успехах, достигнутых в ходе реализации проекта EUV. Представители корпорации сообщили о создании «фотошаблона» для EUV, отвечающего требованиям отраслевых стандартов. Фотошаблон служит для переноса рисунка схемы на кремниевую пластину. Для использования технологии EUV нужны специальные шаблоны, соответствующие уникальным особенностям вакуумного ультрафиолетового излучения.
Консорциум EUV был создан по инициативе Intel в 1997 году. Помимо представителей корпораций Motorola, AMD и IBM в его работе принимают участие сотрудники компаний Micron Technology, Infineon Technologies, а также трех крупных исследовательских лабораторий — Lawrence Livermore National Laboratory, Sandia National Laboratories и Lawrence Berkeley National Laboratory.